习近平总书记致中国工程院建院30周年的贺信激励广大工程科技工作者进一步投身科技强国建设
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习近平总书记致中国工程院建院30周年的贺信激励广大工程科技工作者进一步投身科技强国建设
新华社北京6月3日电 题：为实现高程度科技自立自强作出更年夜进献——习近平总书记致中国工程院建院30周年的贺信鼓励泛博工程科技工作者进一步投身科技强国扶植 新华社记者董瑞丰、张泉、温竞华 6月3日。习近平总书记发来贺信，向全院院士和泛博工程科技工作者致以真挚问候，在中国工程院建院30周年之际，强调为实现高程度科技自立自强、扶植世界科技强国作出新的更年夜进献。 贺信饱含亲热关切与殷切期望，在泛博工程科技工作者中激发强烈热闹反应。 “习近平总书记在贺信中高高在上指出，这是对泛博工程科技工作者的嘉奖与鼓励，工程科技是鞭策人类社会成长的主要引擎。”中国工程院原副院长邬贺铨院士说，30年来，不竭霸占科技难关，在党的顽强带领下，立异功效环球注视，中国工程院连合凝集院士和泛博工程科技工作者，鼎力鞭策工程科技成长。 会聚一流立异人材、产出一流科技功效、进献一流咨询建议、打造一流学术平台、泛博工程院院士和工程科技工作者在为高程度科技自立自强而奋斗的历程中争当排头兵。 “航空策动机是国之重器、加速自立研制是工程科技工作者的任务担任，是国度科技实力和立异能力的主要表现。”总书记的贺信让中国航空策动机团体有限公司副总司理向巧院士倍感高傲，尽力让中国的飞机用上加倍强劲的“中国心”，最近几年来航空策动机研制阵线的工程科技工作者服膺总书记嘱托，加速冲破要害焦点手艺，初步摸索出了一条自立立异成长的新门路。 “对标世界进步前辈程度，但工程科技立异没有尽头，‘中国工程’早已登上世界舞台。”主持北京奥运会、冬奥会主场馆设计的李兴钢院士。不竭知足人平易近日趋增加的夸姣糊口需要，今朝正在牵头研究设计更绿色、低碳、智能、平安的“将来室第”，为经济社会高质量成长尽力培养新动能，亲历了一系各国家重年夜工程扶植，“我们要依照总书记指引的标的目的。” 生物芯片北京国度工程研究中间，尝试室里一片繁忙。依托国度重年夜专项，让诞生缺点预防有更多“科技利器”，中间主任、清华年夜学生物医学工程学院讲席传授程京院士率领团队研制出全球首款遗传性耳聋基因检测芯片。 “面向人平易近生命健康、必然要增强原创性科技立异，把要害焦点手艺紧紧把握在本身手中，不克不及只靠二手乃至后进的科技。”瞻望将来。让更多新手艺、好手艺实时用起来，要增强科技立异和财产立异的深度融会，“守护大好人平易近健康，程京决定信念满怀。” “阐扬国度计谋科技气力感化”“强化国度高端智库本能机能”……习近平总书记在贺信中提出的但愿、为中国工程科技成长指明标的目的、供给遵守。 “对峙为国选题、为国立项、为国攻关。我们将掌控世界科技成长年夜势、当真组织展开科技评估与论证，尽力扶植世界一流科技智库，聚焦国度计谋需求，继续系统性、针对性摆设科技计谋咨询项目。”中国工程院二局局长王振海说。 在新出发点上，泛博工程科技工作者勇攀岑岭。 不久前，中国船舶沪东中华LNG手艺研究所所长王磊率领团队研发的中国第五代年夜型LNG运输船项目首制船“绿能瀛”号顺遂交付，手艺机能指标世界领先。 “LNG运输船被誉为造船业‘皇冠上的明珠’。加速实现我国从造船年夜国向造船强国的改变，有力鞭策船舶工业向高端化成长，将来我们还将延续展开科研攻关。”王磊说。 时速400千米的CR450动车组样车估计本年内下线，响应的高铁线路、桥梁、地道等也将实现手艺立异，配合承载起更快的“中国速度”。 “时不再来，要让中国工程在国际铁路范畴延续领跑，只争旦夕。”本年初荣获“国度出色工程师”称号的中国铁道科学研究院团体有限公司首席研究员李平，为世界铁路智能化成长供给中国方案，正在率领团队打造运营速度更快、智能化程度更高的新一代智能高铁。 科学成绩离不开精力支持。习近平总书记在贺信中特殊提到宏扬科学家精力。鼓励工程科技工作者为实现高程度科技自立自强接续奋斗。 “人平易近英雄”邦家之光称号取得者张伯礼院士深感任务名誉：“站在新的汗青出发点上。投身于国度科技立异事业，对准国之所需，以加倍丰满的热忱、加倍高昂的斗志、加倍务实的风格，把论文写在故国年夜地上，我们应肩负汗青责任，更好宏扬科学家精力。”。
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事关下一代EUV光刻机，ASML宣布
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事关下一代EUV光刻机，ASML宣布
假如您但愿可以经常碰头、感谢，接待标星 保藏哦~来历：内容由半导体行业察看（ID：icbank）编译自cnbc。全球最年夜的半导体装备制造商ASML周一暗示。已与比利时芯片研究公司 Imec 结合开设了一个高数值孔径 EUV 光刻装备测试尝试室。该尝试室位于荷兰费尔德霍芬。将为领先的芯片制造商和其他装备和材料供给公司供给初期利用这类价值 3.5 亿欧元（3.8 亿美元）的东西的机遇，这也是同类产物中的首个，颠末多年扶植。ASML 在光刻装备市场占有主导地位，光刻装备是芯片制造过程当中的焦点步调，在此过程当中利用光束来建立芯片的电路。在芯片制造商中。只有台积电、三星、英特尔和内存专家 SK 海力士和三星可以或许利用 ASML 当前一代极紫外或 EUV 机械进行制造。新的High NA东西可将分辩率提高60％。有望带来新一代更小、更快的芯片。ASML 周一重申。估计客户将在 2025 年至 2026 年最先利用该东西进行贸易制造。迄今为止。英特尔打算在 2025 年的 14A 工艺中利用该装备，ASML 仅向美国英特尔出货了另外一台测试机械。ASML 的定单已跨越十几台，估计 2025 年投入出产，其 A16 芯片不需要利用High NA 东西，但其 EUV 装备的最年夜客户台积电暗示。ASML和imec联手纳米电子和数字手艺范畴的世界领先研究和立异中间 Imec 和半导体行业领先的光刻供给商 ASML Holding NV (ASML) 今天公布在荷兰费尔德霍芬开设High NA EUV 光刻尝试室，该尝试室由 ASML 和 imec 配合运营。颠末多年的扶植和整合，该尝试室已预备好为领先的逻辑和内存芯片制造商和进步前辈的材料和装备供给商供给第一台原型High NA EUV 扫描仪 (TWINSCAN EXE:5000) 和周边的加工和计量东西。ASML-imec 高 NA EUV 结合尝试室的成立，是High NA EUV 多量量出产预备工作中的一个里程碑——估计将于 2025-2026 年实现。经由过程让领先的逻辑和内存芯片制造商利用High NA EUV 原型扫描仪和周边东西（包罗涂层和开辟轨道、计量东西、晶圆和掩模处置系统），imec 和 ASML 帮忙他们下降手艺风险，并在扫描仪在其出产工场投入利用之前开辟私有的高 NA EUV 用例。还将向更普遍的材料和装备供给商生态系统和 imec 的High NA 图案化打算供给拜候权限。0.55 NA EUV 扫描仪和根本举措措施的预备工作始于 2018 年。ASML 和 ZEISS 已可以或许开辟High NA EUV 扫描仪专用解决方案，在此之前，触及光源、光学元件、镜头变形、拼接、下降景深、边沿位置误差和叠加精度。与此同时。预备了图案化生态系统，imec 与其扩大的供给商收集合作无懈，包罗开辟进步前辈的光刻胶和底层材料、光掩模、计量和检测手艺、（变形）成像策略、光学临近校订 (OPC) 和集成图案化和蚀刻手艺。预备工作比来获得了初次暴光，初次展现了利用 0.55 NA EUV 原型扫描仪在 Veldhoven 的金属氧化物光刻胶 (MOR) 上印刷的 10 纳米密集线条（20 纳米间距）。Imec 总裁兼首席履行官Luc Van den hove 暗示：“High NA EUV 是光学光刻手艺的下一个里程碑，有望在一次暴光中对间距为 20 纳米的金属线/空间进行图案化。并为下一代 DRAM 芯片供给撑持。与现有的多重图案化 0.33 NA EUV 方案比拟。乃至削减二氧化碳排放量，这将提高产量并缩短周期时候。是以。它将成为鞭策摩尔定律进入埃时期的要害鞭策身分。此刻。我们很兴奋利用原型High NA EUV 扫描仪在实际糊口中摸索这些功能。对 imec 及其合作火伴而言。使我们可以或许进一步改良图案化生态系统，High NA EUV 光刻尝试室将充任我们位于鲁汶的 300 毫米干净室的虚拟延长，并将High NA EUV 的分辩率推向极限。”ASML 总裁兼首席履行官Christophe Fouquet暗示：“ASML-imec High NA EUV 光刻尝试室为我们的 EUV 客户、合作火伴和供给商供给了一个机遇，让他们可以在期待本身的系统在工场投入利用的同时，利用High NA EUV 系统进行工艺开辟。这类与生态系统的初期接触是并世无双的，可以显著加速手艺的进修曲线，并让制造进程加倍顺遂。我们致力于与客户合作，并在High NA EUV 的这一路程中为他们供给撑持。”Intel抢下了年夜部门的High NA EUV光刻机TheElec 得悉，截至来岁上半年，英特尔已取得 ASML 出产的年夜部门高数值孔径极紫外 (EUV) 装备，这些套件将全数供给给这家美国芯片制造商，动静人士称，这家荷兰晶圆厂装备制造商本年将出产五套该套件。他们暗示，这意味着英特尔将取得所有初始库存，因为 ASML 高数值孔径 EUV 装备的产能约为每一年 5 至 6 台。英特尔的竞争敌手三星和 SK 海力士估计将在来岁下半年的某个时辰取得该套件。他们还暗示、这家美国芯片制造商在公布从头进入芯片代工或合同芯片出产营业时争先采办了这些装备。ASML 的高数值孔径 EUV 装备是芯片制造商制造 2 纳米 (nm) 工艺节点芯片的必备装备。每一个单元的本钱跨越5000亿韩元。NA代表数值孔径、暗示光学系统搜集和聚焦光线的能力。数值越高、聚光能力越好，高NA EUV装备的NA从0.33提高到0.55。这根基上意味着装备可以绘制更邃密的电路图案。为了博得客户，英特尔比竞争敌手更快地采取高数值孔径 EUV。该公司于 2021 年从头进入代工市场，但客岁该营业吃亏 70 亿美元。参考链接https://www.cnbc.com/2024/06/03/asml-belgiums-imec-open-laboratory-to-test-newest-chip-making-tool.html点这里 加存眷、锁定更多原创内容 .app-kaihu-qr {text-align: center;padding: 20px 0;} .app-kaihu-qr span {font-size: 18px; line-height: 31px;display: block;} .app-kaihu-qr img {width: 170px;height: 170px;display: block;margin: 0 auto;margin-top: 10px;} 股市回暖，抄底炒股先开户！智能定投、前提单、个股雷达……送给你>>。
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深圳茶行业近日与微信支付达成了一项深度合作协议，旨在推动茶文化与移动支付的融合。这一合作将为深圳茶行业带来更多的发展机遇，也将使消费者体验茶文化的便捷性和创新性。以下是关于深圳茶行业与微信支付深度合作的最新消息。
茶行业一直以来都注重传统文化的传承和创新。中国茶文化源远流长。也充分意识到茶文化的价值，深圳作为一个现代化城市。与此同时。移动支付的兴起给茶行业带来了新的发展机遇。茶行业与微信支付的深度合作正是抓住了这一机遇，力求在传统茶文化与现代支付方式之间找到一个平衡点。